Investigadores del MIT utilizan IA para identificar defectos atómicos en materiales
Investigadores del MIT han desarrollado un modelo de inteligencia artificial que identifica y mide defectos atómicos en materiales. Este avance permite cuantificar hasta seis tipos de defectos simultáneamente, lo cual es un desafío para las técnicas tradicionales. La herramienta podría mejorar la fabricación de semiconductores y otros productos, optimizando propiedades como la resistencia mecánica y la eficiencia energética, aunque su implementación en el control de calidad podría ser compleja.
